在清洗過程中，13x分子篩親水性高能電子與反應性氣體分子碰撞使其解離或電離，產生的各種粒子用來轟擊清洗表面，幫助根除各種污染物；還可以改善材料本身的表面功能，如表面的潤濕作用和薄膜的附著性能。這些功能在許多來料加工中是非常重要的。

等離子體化學的一個有趣的發(fā)展是從原始的簡單分子合成復雜的分子結構。典型的反應包括異構化、原子或小基團的去除（去除）、二聚/聚合和原始材料的破壞。例如，分子篩親水性甲烷、水、氮氣和氧氣等氣體與輝光放電混合以獲得生命。原產材料 & MDASH; & MDASH; 氨基酸。 PLASMA墊圈具有順反異構化、開環(huán)反應或開環(huán)反應。除單分子反應外，還可發(fā)生雙分子反應。

它不分待遇對象，高硅分子篩親水性和疏水性可以加工不同的基板，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料都可以很好的用等離子體處理，所以特別適用于不耐熱、不耐溶劑的基板材料。等離子清洗機是一種全新的高科技產品，它也被稱為等離子表面處理設備，其主要特點是可以達到常規(guī)清洗無法達到的效果，同時提高產品質量，有效解決環(huán)保問題。LED行業(yè)等離子清洗機的清洗主要在芯片封裝環(huán)節(jié)，可以徹底解決布線前的清潔度問題。

結果表明，分子篩親水性N2、Ar、O2、CH4-O2和Ar-CH4-O2等離子體均能提高硅橡膠的親水性，其中CH4-O2和Ar-CH4-O2等離子體效果較好，且不隨時間降解。在適宜的工藝條件下采用低溫等離子體對PE和PP進行處理，PVF2、LDPE等材料，材料表面形貌發(fā)生了顯著變化，引入了多種含氧基團，使表面由非極性、不易粘接轉變?yōu)橐欢O性、易粘接、親水性，有利于粘接、涂布和印刷。

分子篩親水性

實現(xiàn)更高的去除率、更高的能源效率和更大的處理能力將有利于未來的工業(yè)應用。。超光滑硅片等離子處理器表面處理研究：等離子處理器可以通過濺射去除處理過的轉變層，降低表面粗糙度，提高硅片的表面清潔度和表面能。優(yōu)化的參數證實，與未經等離子處理的晶片相比，經等離子處理的晶片在涂層后平均損失 34.2 ppm，表現(xiàn)出良好的一致性。

在等離子體處理的整個過程中，影響等離子體處理效果的因素包括工藝溫度、射頻功率、氣體分布、真空度、金屬電極設置、靜電保護等。。等離子體發(fā)生器提高汽車密封條的粘接強度:等離子體發(fā)生器技術可以有效提高硅膠密封條的表面能，提高親水性和粘接能。等離子體應用技術在汽車工業(yè)中發(fā)揮著極其重要的作用。汽車制造過程密切協(xié)調，以確保新產品的最終高質量。

使用 SiH4 + N2O [或 Si (OC2H4) + O2] 創(chuàng)建 SiOxHy。氣壓為1-5 Torr（1Torr≈133Pa），電源為13.5MHz。 SiH4 + SiH3 + N2 用于氮化硅沉積。溫度為300℃，沉積速率約為180埃/分鐘。無定形碳化硅膜由硅烷和含碳共反應物獲得，產生 SixC1 + x: H。其中 x 是 Si / Si + C 比率。硬度超過2500kg/mm2。

所以如果溫度太高，停留時間過長，短短幾秒內溫度就會急劇上升。此外，由于高溫，易碎物品通常在真空中機洗。吸塵器沒那么復雜。根據電源的頻率，以40KHz和13.56MHz為例。正常情況下，物料在一個腔體中運行，頻率為40KHz，典型溫度在65°以下，機器配備強大的冷卻風扇。如果處理時間不長，材料的表面溫度會與室溫相匹配。 13.56MHz的頻率較低，通常小于30°。

高硅分子篩親水性和疏水性

. 13.56MHz產生的既有物理反應，高硅分子篩親水性和疏水性又有化學反應，20MHz也有物理反應，但最重要的反應是化學反應。需要以 13.56MHz 或 20MHz 的等離子清洗來激活和修改材料。型腔材料的選擇 常見的型腔材料有石英型腔、不銹鋼型腔和鋁合金型腔，各有其優(yōu)點。石英腔體較冷且抗反應。鋁合金型腔的優(yōu)點： 1.鋁合金密度低，強度高，性能優(yōu)于優(yōu)質鋼，具有更好的加工性能。 2、鋁具有優(yōu)良的導電性、導熱性和耐腐蝕性。