低溫等離子處理器的清洗是利用等離子附著在固體表面的高效能量，硅片等離子體表面處理打破表面高分子有機(jī)物的分子鏈，形成小分子，進(jìn)一步打破小分子鏈，形成H2O和CO2，最后使分子氣化，剩余分子產(chǎn)生極性基團(tuán)，增加表面能。

等離子體表面處理設(shè)備用于覆膜彩盒包裝，硅片等離子體蝕刻機(jī)經(jīng)過處理后在覆膜表面發(fā)生多種物理、化學(xué)變化，或蝕刻而粗糙，或建立緊密的交聯(lián)層，或引入氧極性基團(tuán)，潤濕性好，附著力強(qiáng)，可染色，生物相容性好引入多種含氧基團(tuán)，提高了鍵合表面的表面能，使其從非極性、難粘的表面轉(zhuǎn)變?yōu)闃O性、易粘和潤濕性。相當(dāng)于一般印刷紙和一般印刷紙的膠粘劑，產(chǎn)品質(zhì)量更穩(wěn)定，完全、徹底避免脫膠問題。

隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，硅片等離子體表面處理對產(chǎn)品使用的各種工藝的技術(shù)要求越來越高。等離子體表面處理技術(shù)的出現(xiàn)，不僅提高了產(chǎn)品性能，提高了生產(chǎn)效率，而且實(shí)現(xiàn)了安全環(huán)保的效果。

如果您對等離子表面清洗設(shè)備有更多的疑問，硅片等離子體表面處理歡迎咨詢我們(廣東金來科技有限公司)

硅片等離子體表面處理

低溫等離子清洗采用高真空、高頻能量和混合活性氣體流動(dòng)去除板上的膠水，能有效改善因化學(xué)劑去除咬膠過度而造成的涂層質(zhì)量，在剛性柔性粘接板的加工中已廣泛應(yīng)用。近年來，隨著未來對可穿戴電子產(chǎn)品需求的顯著增加和微電機(jī)設(shè)備的應(yīng)用，越來越多的多層柔性板或剛性柔性板被用于我們的日常生活中。

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其結(jié)果是形成電離空氣云(或電暈放電)，然后用于塑料和其他材料的表面處理。因此，放置在電暈清掃器放電下的物質(zhì)被電子轟擊，其能量是破壞表面分子鍵所需能量的兩到三倍。自由基與放電產(chǎn)物之間的氧化反應(yīng)較快，或同一或不同鏈上的自由基迅速反應(yīng)生成交叉鏈。表面氧化增加表面張力或表面能，使液體更加濕潤，促進(jìn)粘附。

射頻電源等離子體發(fā)生器及其頻率的選擇是保證電離質(zhì)量和工藝靈活性的兩個(gè)重要參數(shù)。對于清洗應(yīng)用，RF發(fā)生器的頻率是標(biāo)準(zhǔn)，它決定了氣體是否能很好地激發(fā)到等離子體中。13.56 mhz是最常用的頻率。射頻發(fā)生器也與匹配網(wǎng)絡(luò)相關(guān)聯(lián)。如果阻抗負(fù)載不能準(zhǔn)確調(diào)整，射頻發(fā)生器會(huì)因?yàn)榻邮詹ǖ姆答伓鴵p壞。為了獲得良好的清洗效果，必須進(jìn)行匹配調(diào)整。一個(gè)合適的匹配系統(tǒng)和一個(gè)高質(zhì)量的射頻發(fā)生器將自動(dòng)調(diào)整負(fù)載阻抗，即使清洗條件和操作變化。

硅片等離子體蝕刻機(jī)