金屬電極的設計對電暈清洗效率有顯著的干擾，電暈機處理光電材料主要包括金屬電極的材料、布局和尺寸。對于內部金屬電極電暈表面處理器來說，由于金屬電極暴露在電暈中，某些材料的金屬電極會被某些電暈刻蝕或濺射，這會造成很多不必要的環(huán)境污染，導致金屬電極尺寸的改變，從而干擾電暈清洗系統(tǒng)的穩(wěn)定性。金屬電極的布局對電暈表面處理器的速度和均勻性有很大的干擾。

電暈接枝氨基的主要因素是處理時間和放電功率。如果一個氨基分子與膜上的一個寡核苷酸分子偶聯(lián)，薄膜電暈機處理機視頻在后續(xù)的deDMT反應中就會有一個DMT分子被除去，且DMT稀溶液在酸性介質中符合Lambert-Beer定律，在498nm左右有較大的吸收峰。電暈處理后，表面變厚，孔徑變大更清晰。這是由于電暈中的離子、激發(fā)分子和自由基與材料表面的各種相互作用。

在產(chǎn)生的電暈中，電暈機處理光電材料當電子溫度等于離子溫度和氣體溫度時，電暈稱為平衡電暈或高溫電暈；當電子溫度遠高于離子溫度和氣體溫度時，電暈為非平衡電暈或低溫電暈。目前，低溫電暈主要用于材料的表面改性。在材料表面改性中，主要是利用低溫電暈轟擊材料表面，使材料表面分子的化學鍵打開，與電暈中的自由基結合，在材料表面形成極性基團。

自由電子在電場E的作用下加速產(chǎn)生高能電子E*:E+E&RARR；E*(3-26)（2）引發(fā)自由基反應。高能電子與乙烷分子發(fā)生彈性和非彈性碰撞。

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與電暈相比，電暈的內部成分是多樣而活躍的，同時又具有化學和電學特性。當具有相應能量和化學性質的電暈與PTFE聚四氟乙烯反應時，可以打破PTFE表面的C-F鍵，同時引入極性基團填充F原子的分離，形成粘附表面。

2.高分子材料表面清洗：電暈作用通過高能電子和離子轟擊材料表面來機械地去除污垢層。電暈清洗劑清洗可以去除某些加工后的聚合物中可能存在的污垢層、不必要的聚合物表面涂層和弱邊界層。3.聚合物表面改性：電暈破壞聚合物表面的化學鍵，導致聚合物表面形成自由官能團。根據(jù)電暈過程氣體的化學性質，這些表面自由官能團與電暈中的原子或化學基團結合形成新的聚合物官能團，取代原有的表面聚合物。

與傳統(tǒng)的有機溶劑清洗相比，低溫電暈發(fā)生器有很多優(yōu)點，主要有以下幾點：1.無環(huán)境污染，無清洗劑，清洗效率高，清洗方便快捷。2.具有良好的表面活性劑，還能活化物品表層，增強表層附著力，使表層發(fā)生轉變。3.附著力性能指標好，廣泛應用于電子器件、航空航天、醫(yī)療設備、紡織等領域。低溫電暈發(fā)生器技術已越來越多地應用于襯底填料區(qū)的活化、清洗和澆注和鍵合前的制備處理。。

但由于我國大陸是全球功率半導體消費大區(qū)，2020年繼續(xù)高于40%，而且功率半導體的使用規(guī)模已經(jīng)從傳統(tǒng)的工控和4C行業(yè)（計算機、通信、消費電子、汽車）轉變。向新能源、軌道交通、智能電網(wǎng)等新領域拓展，并在國內熱點使用領域積極開拓布局，有望成為功率半導體產(chǎn)業(yè)的突破口，因此未來我國功率半導體發(fā)展空間可期。

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