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它具有清潔去污、強(qiáng)粘度、活化、蝕刻等特點(diǎn)。對于特殊不易粘接的材料，平板等離子清洗設(shè)備或?qū)φ辰右筝^高的產(chǎn)品可有效提高加工效果。。1. 根據(jù)等離子體火焰溫度:(1)高溫等離子體:溫度相當(dāng)于108~109K的完全電離等離子體，如太陽、受控?zé)岷司圩兊入x子體。(2)低溫等離子體:等離子體發(fā)生器熱等離子體:高密度高壓(1個大氣壓以上)，溫度103~105K，如電弧、高頻和燃燒等離子體。

平板等離子體表面活化

具有效率高、能耗低、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。等離子體技術(shù)被廣泛應(yīng)用，從制造微電子工業(yè)中的集成電路到處理聚合物薄膜和銷毀有毒廢物。(1)鍍鋁基膜預(yù)處理的意圖:增加鍍鋁層的附著力，增加鍍鋁層的阻隔作用(如堵氣、堵光)，提高鍍鋁層的均勻性。在等離子體預(yù)處理過程中，對基板表面進(jìn)行清洗(如用水)和活化，即對基板表面進(jìn)行化學(xué)改性，使鋁原子的附著更加牢固。

等離子體與固體、液體或氣體一樣，是一種物質(zhì)狀態(tài)，也被稱為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。給氣體施加足夠的能量使其游離成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體清洗劑(詳情請點(diǎn)擊)是利用這些活性成分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理，從而達(dá)到清洗、活化、蝕刻、涂膜等目的。

為了驗(yàn)證等離子體清洗機(jī)的效果，可以通過SITA CI的表面清潔度系統(tǒng)測量RFU值，用相對熒光單元(Relative Fluorescence Uni, RFU)來代表清潔度水平。RFU是相對熒光強(qiáng)度值，RFU值越大，零件表面殘留污染物含量越高。因?yàn)榈入x子體處理顯示出化學(xué)變化和物理變化。物理變化，是材料表面改性后粗化，蝕刻后表面凸起增大，表面積增大。

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平板等離子清洗設(shè)備

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