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氣體輝光放電時,從陰極發(fā)出的電子經(jīng)過電場.加速，獲得能量撞擊氣體分子,使氣體分子激發(fā),在等離子區(qū)產(chǎn)生了大量的正離子(等離子區(qū)任何位置的電子濃度和正離子濃度相等,所以稱等離子區(qū)),這些正離子在電場作用下加速向陰極移動,轟擊靶材和薄膜表面。Ar的作用是維持正常的輝光放電,同時氬離子(正離子)也不斷轟擊薄膜表面,產(chǎn)生級聯(lián)碰撞,將油污、灰塵等污物分子濺射出去,清潔薄膜表面。
1. CO2分子與高能電子的非彈性碰撞； 2.系統(tǒng)中的 CHx 和 H 等活性物質(zhì)會激活 CO2； 3.催化劑吸附 CO2 分子，與 C-0 結(jié)合，促進 CO 鍵的斷裂和 CO。并產(chǎn)生活性O(shè)原子。顯然，在等離子體催化的聯(lián)合作用下，路徑 3 對于 CH4 和 CO2 的轉(zhuǎn)化無疑是重要的。等離子體中催化劑的活化主要取決于與高能電子的碰撞。
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..去除的污染物可以是有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、顆粒污染物等。針對不同的污染物，廣東等離子表面處理機價格需要使用不同的清潔工藝。根據(jù)所選擇的工藝氣體，等離子清洗可分為化學清洗、物理清洗和物理清洗。化學清洗。 1化學清洗：表面作用主要是化學反應(yīng)等離子清洗，又稱PE。氧等離子體將非揮發(fā)性有機化合物化學轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性 H2O 和 CO2。氫等離子體可以通過化學反應(yīng)去除金屬表面的氧化層來清潔金屬表面。
