等離子體清洗機(jī)的幾種頻率區(qū)別與運用常用的等離子體激起頻率有三種：激起頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，湖南光學(xué)等離子清洗機(jī)維修13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不平等離子體發(fā)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只要幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。
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在這種情況下的等離子表面處理會產(chǎn)生以下效果：1.1灰化表面有機(jī)層 表面會受到化學(xué)轟擊在真空和瞬時高溫狀態(tài)下，湖南光學(xué)等離子清洗機(jī)哪家好污染物部分蒸發(fā)污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空帶出紫外輻射破壞污染物 因為等離子處理每秒只能穿透幾個納米的厚度，所以污染層不能太厚。指紋也適用。 1.2氧化物去除 金屬氧化物會與處理氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng) 這種處理要采用氫氣或者氫氣與氬氣的混合物。有時也采用兩步處理工藝。
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而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效(果)很佳，湖南光學(xué)等離子清洗機(jī)維修典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。射頻等離子清洗機(jī)則用的是射頻電源，也就是說我們的等離子設(shè)備中頻和射頻等離子設(shè)備的區(qū)分就是看它們使用的匹配電源。射頻Radio Frequency ，簡稱RF。
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標(biāo)題：等離子清洗機(jī)在HDI板盲孔清洗的應(yīng)用隨著HDI板孔徑的微小化，傳統(tǒng)的化學(xué)清洗工藝已不能滿足盲孔結(jié)構(gòu)的清洗，液體表面張力使藥液滲透進(jìn)孔內(nèi)有困難，特別是在處理激光鉆微盲孔板時，可靠性不好。目前應(yīng)用于微埋盲孔的孔清洗工藝主要有超生波清洗和等離子體清洗，超聲波清洗主要依據(jù)空化效應(yīng)來達(dá)到清洗的目的，屬于濕法處理，清洗時間較長，且依賴于清洗液的去污性能，增加了對廢液的處理問題。
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